エアメンブレン、グラフェンEUVペリクル量産へ約8.5億円調達

次世代半導体露光装置向けのグラフェンEUVペリクルを開発するエアメンブレンは10月30日、総額約8億5,000万円の資金調達を実施したと発表した。出資・融資・助成金を合わせた累計調達額は約10億円になった。

内訳は第三者割当増資、三井住友銀行からの融資、NEDOの「GX分野のディープテック・スタートアップに対する実用化研究開発・量産化実証支援事業」の助成金で、各金額は非公表。増資のリード投資家はグローバル・ブレインで、エースタート、ケイエスピー、三菱UFJキャピタルも参加した。三菱UFJキャピタルは追加出資となる。

量産が難しいEUVペリクル

ペリクルは、EUV露光工程でフォトマスクに微小な異物が付着するのを防ぐ保護部品だ。異物は歩留まりを下げる要因になる。一方で、高い光透過性、耐熱性、プラズマ環境下での化学的安定性、機械強度を同時に満たす必要があり、量産可能なコストで供給できる製品は世界的にも限られるという。

同社は産業技術総合研究所で培った連続合成・自動転写技術により、炭素原子一層分の薄さで扱いが難しいグラフェンの量産課題を解決したとしている。合成速度は従来比100倍以上という。

今後の計画

調達資金は量産体制の構築に充てる。2027年に欠陥・均一性・寿命を高精度に管理する計測体制を整えてパイロット生産を開始し、2028年に次世代EUV露光装置向けの量産ラインを立ち上げる計画だ。