Airmembrane lève 850 M¥ pour ses pellicules EUV en graphène

Airmembrane, jeune pousse japonaise qui développe des pellicules en graphène pour la lithographie EUV (ultraviolet extrême), a annoncé le 30 octobre avoir levé environ 850 millions de yens au total. Le financement associe une augmentation de capital réservée, un prêt de la Sumitomo Mitsui Banking Corporation et une subvention de l'agence publique NEDO. L'entreprise ne détaille pas chaque montant. Avec les fonds propres, les prêts et les aides, le cumul atteint environ 10 milliards de yens.

Les investisseurs

Global Brain a mené le tour de table via son fonds n° 9, le fonds Takanawa Chikyueki et le fonds Shinhan-GB Future Flow. A-Start, KSP (par le fonds NextG) et Mitsubishi UFJ Capital y participent aussi ; pour ce dernier, il s'agit d'un nouvel apport. La subvention du NEDO relève d'un programme de soutien à la R&D appliquée et aux démonstrations de production de masse pour les entreprises deep tech du domaine GX.

Un composant critique

La pellicule protège le photomasque, l'original des circuits, contre les particules microscopiques, qui peuvent faire chuter le rendement de fabrication. Une pellicule EUV doit être très transparente à la lumière, évacuer la chaleur à très haute température, rester stable chimiquement dans le plasma et résister mécaniquement. Ces exigences s'opposent en partie : selon l'entreprise, peu de produits dans le monde les réunissent à un coût compatible avec la production de masse.

La difficulté principale est de fabriquer en série, sans perte de qualité, un graphène épais d'un seul atome de carbone et délicat à manipuler. Airmembrane affirme y répondre grâce à une synthèse continue et à un transfert automatisé, issus de travaux menés à l'AIST. La synthèse serait plus de 100 fois plus rapide qu'auparavant, et l'automatisation du transfert éliminerait défauts et souillures.

Calendrier

En septembre, Ryo Shinomoto, administrateur et directeur commercial (CBO), a présenté la technique et la feuille de route de commercialisation à la conférence SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2026, à Monterey, en Californie. Les fonds serviront à bâtir la production de masse : un dispositif de mesure des défauts, de l'homogénéité et de la durée de vie, avec une production pilote en 2027, puis une ligne pour les scanners EUV de nouvelle génération en 2028. L'entreprise commercialise déjà des produits en graphène CVD, dont la puce FET FR01, des feuilles, des grilles TEM et une unité UV.