Osegi
Girişimler·1 dk okuma

Airmembrane, grafen EUV pellicle için yaklaşık 850 milyon yen topladı

Japon girişim Airmembrane, yeni nesil EUV litografi için grafen pellicle üretimini ölçeklemek üzere özkaynak, banka kredisi ve NEDO hibesiyle yaklaşık 850 milyon yen topladı.

Thin graphene membrane pellicle used to protect a photomask in an EUV semiconductor lithography system.
Görsel: BRIDGE

Yeni nesil yarı iletken litografi makineleri için grafen EUV pellicle geliştiren Japon girişim Airmembrane, 30 Ekim'de toplam yaklaşık 850 milyon yenlik finansman sağladığını duyurdu. Kaynak; seçilmiş yatırımcılara yapılan hisse ihracı, Sumitomo Mitsui Banking Corporation'dan alınan kredi ve NEDO'nun GX alanındaki deeptech girişimlere yönelik programından alınan hibeden oluşuyor. Şirket, kalemlerin tutarını açıklamadı. Önceki finansmanla birlikte toplam tutar yaklaşık 1 milyar yene ulaştı.

Yatırımcılar

Turun lideri Global Brain oldu. Hisseleri şirketin 9 numaralı fonu, Takanawa Chikyueki Fonu ve Shinhan-GB Future Flow Fonu aldı. Ace Start, KSP (NextG Investment LP aracılığıyla) ve Mitsubishi UFJ Capital de yer aldı; Mitsubishi UFJ Capital için bu ek bir yatırım.

EUV pellicle neden önemli

Pellicle, gelişmiş çiplerin üretiminde kullanılan aşırı mor ötesi (EUV) litografi sürecinde koruyucu bir parça. Devre kalıbı olan fotomaskın üzerine küçük parçacıkların yapışmasını engelliyor; bu da üretimde verimi ciddi biçimde düşüren bir sorun.

Ancak pellicle'ın ışığı en üst düzeyde geçirecek kadar ince, çok yüksek sıcaklığa dayanacak kadar ısı yayabilen, plazma ortamında kimyasal olarak kararlı ve mekanik olarak sağlam olması gerekiyor. Bu özellikler birbiriyle çelişiyor. Şirkete göre hepsini karşılayan ve seri üretime uygun maliyetle sunulabilen ürün dünyada sınırlı sayıda.

En büyük engel, tek karbon atomu kalınlığındaki ve işlenmesi zor grafeni yüksek kalitede seri üretmek. Airmembrane, AIST'te geliştirilen sürekli sentez ve otomatik transfer teknolojisiyle bu sorunu çözdüğünü söylüyor. Sentez hızının önceki yönteme göre 100 kattan fazla olduğu, transfer sürecinin otomasyonuyla ince kusur ve kirlerin ortadan kaldırıldığı belirtiliyor.

Yol haritası

Fon, seri üretim altyapısına ayrılacak. Şirket 2027'de kusur, homojenlik ve ömrü hassas biçimde denetleyen ölçüm altyapısını kurup pilot üretime başlamayı, 2028'de ise yeni nesil EUV litografi makineleri için seri üretim hattını devreye almayı planlıyor. Airmembrane ayrıca FR01 grafen alan etkili transistör çipi ve kriyo-elektron mikroskobu için grafen TEM gridleri gibi ürünler de sunuyor.

Göz atmaya değer uygulamalar

Etiketler:airmembranegrapheneeuv pelliclesemiconductorsfundingnedo

Aynı günden diğer haberler

Tümünü gör →

Daha fazla: Girişimler

Tümünü gör →