Airmembrane pozyskało ok. 850 mln jenów na pellicle EUV z grafenu

Japoński startup Airmembrane, który rozwija grafenowe pellicle do litografii EUV, ogłosił 30 października pozyskanie łącznie około 850 mln jenów. Finansowanie składa się z emisji akcji dla wybranych inwestorów, kredytu od banku Sumitomo Mitsui Banking Corporation oraz dotacji z programu NEDO dla deeptechowych startupów z obszaru GX. Spółka nie ujawniła kwot poszczególnych części. Łącznie z wcześniejszym finansowaniem suma sięga teraz około 1 mld jenów.

Kto zainwestował

Rundę poprowadził Global Brain, a akcje objęły jego fundusz nr 9, fundusz Takanawa Chikyueki oraz Shinhan-GB Future Flow. Dołączyli także Ace Start, KSP (poprzez NextG Investment LP) i Mitsubishi UFJ Capital. Dla tej ostatniej firmy jest to kolejna inwestycja w spółkę.

Po co pellicle EUV

Pellicle to element ochronny stosowany w litografii w ekstremalnym ultrafiolecie przy produkcji zaawansowanych układów. Chroni fotomaskę, czyli wzorzec obwodu, przed osadzaniem się drobnych zanieczyszczeń, które mocno obniżają uzysk produkcji.

Wymagania są jednak sprzeczne: błona musi być na tyle cienka, by przepuszczać światło, odprowadzać ciepło w bardzo wysokich temperaturach, być odporna chemicznie w plazmie i wytrzymała mechanicznie. Według spółki niewiele produktów na świecie spełnia wszystkie te warunki przy kosztach pozwalających na masową produkcję.

Główną barierą jest wytwarzanie grafenu, cienkiego jak jedna warstwa atomów węgla i trudnego w obróbce, w wysokiej jakości i na dużą skalę. Airmembrane twierdzi, że rozwiązało ten problem dzięki technologii ciągłej syntezy i zautomatyzowanego transferu, opracowanej w japońskim instytucie AIST. Synteza ma być ponad 100 razy szybsza niż dotychczas, a automatyzacja transferu eliminuje drobne defekty i zabrudzenia.

Plany produkcyjne

Środki trafią na budowę zaplecza produkcyjnego. W 2027 roku firma chce uruchomić produkcję pilotażową wraz z systemem pomiarowym kontrolującym defekty, jednorodność i trwałość. W 2028 roku planuje start linii masowej dla litografów EUV nowej generacji. Spółka oferuje już też inne produkty z grafenu, w tym chip grafenowego tranzystora polowego FR01 oraz siatki TEM do kriomikroskopii elektronowej.