에어멤브레인, 그래핀 EUV 펠리클 양산 위해 약 8.5억 엔 조달

차세대 반도체 노광장비용 그래핀 EUV 펠리클을 개발하는 일본 스타트업 에어멤브레인(Airmembrane)은 10월 30일 총 약 8억 5,000만 엔의 자금을 조달했다고 발표했습니다. 투자·융자·보조금을 합친 누적 조달액은 약 10억 엔이 됐습니다.

자금은 제3자 배정 증자, 미쓰이스미토모은행 융자, 일본 NEDO의 딥테크 스타트업 실용화 연구개발·양산화 실증 지원사업 채택에 따른 보조금으로 구성됩니다. 각 금액은 공개되지 않았습니다. 증자는 글로벌 브레인이 주도했고, 에이스타트, 케이에스피, 미쓰비시UFJ캐피탈이 참여했습니다. 미쓰비시UFJ캐피탈은 추가 출자입니다.

양산이 어려운 EUV 펠리클

펠리클은 EUV 노광 공정에서 포토마스크에 미세한 이물질이 붙는 것을 막는 보호 부품입니다. 이물질은 제조 수율을 크게 떨어뜨릴 수 있습니다. 다만 높은 광 투과성, 내열성, 플라즈마 환경에서의 화학적 안정성, 기계적 강도를 동시에 충족해야 해, 양산 가능한 비용으로 공급할 수 있는 제품은 세계적으로도 드물다고 회사는 설명합니다.

회사는 산업기술종합연구소(AIST)에서 쌓은 연속 합성·자동 전사 기술로, 탄소 원자 한 층 두께라 다루기 어려운 그래핀의 양산 과제를 해결했다고 밝혔습니다. 합성 속도는 기존보다 100배 이상 빠르다고 합니다.

향후 계획

조달 자금은 양산 체제 구축에 투입됩니다. 2027년에 결함·균일성·수명을 정밀하게 관리하는 계측 체제를 갖춰 파일럿 생산을 시작하고, 2028년에는 차세대 EUV 노광장비용 양산 라인을 가동할 계획입니다.