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Airmembrane ने ग्रैफीन EUV पेलिकल के लिए जुटाए करीब ¥85 करोड़

जापानी स्टार्टअप Airmembrane ने अगली पीढ़ी की EUV लिथोग्राफी के ग्रैफीन पेलिकल के उत्पादन के लिए इक्विटी, बैंक ऋण और NEDO अनुदान से करीब 85 करोड़ येन जुटाए हैं।

Thin graphene membrane pellicle used to protect a photomask in an EUV semiconductor lithography system.
छवि: BRIDGE

ग्रैफीन आधारित EUV पेलिकल विकसित करने वाली जापानी स्टार्टअप Airmembrane ने 30 अक्टूबर को घोषणा की कि उसने कुल करीब 85 करोड़ येन की फंडिंग जुटाई है। कंपनी के मुताबिक अब तक की कुल फंडिंग, यानी निवेश, ऋण और अनुदान मिलाकर, लगभग 1 अरब येन हो गई है।

यह रकम तीन स्रोतों से आई है: थर्ड-पार्टी अलॉटमेंट के जरिए इक्विटी निवेश, Sumitomo Mitsui Banking Corporation से ऋण, और NEDO के डीपटेक स्टार्टअप समर्थन कार्यक्रम के तहत चयन पर मिला अनुदान। कंपनी ने तीनों की अलग-अलग राशि नहीं बताई। इक्विटी दौर का नेतृत्व Global Brain ने किया। इसमें Global Brain के फंड, Ace Start, KSP, और Mitsubishi UFJ Capital भी शामिल हैं; Mitsubishi UFJ Capital के लिए यह अतिरिक्त निवेश है।

पेलिकल क्यों अहम है

पेलिकल एक सुरक्षात्मक पुर्जा है, जो EUV (एक्सट्रीम अल्ट्रावायलेट) एक्सपोज़र प्रक्रिया में फोटोमास्क पर सूक्ष्म कण जमने से रोकता है। ऐसे कण चिप निर्माण की यील्ड को काफी घटा सकते हैं। मुश्किल यह है कि पेलिकल को अत्यधिक पतला, ऊष्मा सहने वाला, प्लाज़्मा में रासायनिक रूप से स्थिर और यांत्रिक रूप से मजबूत होना चाहिए, और ये शर्तें आपस में टकराती हैं। कंपनी के अनुसार सभी शर्तें पूरी कर किफायती दाम पर आपूर्ति कर सकने वाले उत्पाद दुनिया में गिने-चुने हैं।

Airmembrane का दावा है कि उसने AIST में विकसित अपनी निरंतर संश्लेषण और स्वचालित ट्रांसफर तकनीक से एक परमाणु जितनी पतली ग्रैफीन परत को उच्च गुणवत्ता के साथ बनाने की चुनौती हल की है। संश्लेषण की गति पारंपरिक तरीकों से 100 गुना से अधिक बताई गई है।

आगे की योजना

नई पूंजी का उपयोग उत्पादन क्षमता खड़ी करने में होगा। कंपनी 2027 में दोष, एकरूपता और जीवनकाल की सटीक माप व्यवस्था तैयार कर पायलट उत्पादन शुरू करेगी, और 2028 में अगली पीढ़ी के EUV उपकरणों के लिए मास प्रोडक्शन लाइन लगाने की योजना है।

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