Osegi
الشركات الناشئة·1 دقائق قراءة

Airmembrane تجمع نحو 850 مليون ين لتطوير أغشية غرافين لـ EUV

جمعت الشركة الناشئة اليابانية Airmembrane نحو 850 مليون ين من حقوق ملكية وقرض مصرفي ومنحة NEDO لإنتاج أغشية الغرافين الواقية للطباعة الضوئية EUV على نطاق واسع.

Thin graphene membrane pellicle used to protect a photomask in an EUV semiconductor lithography system.
الصورة: BRIDGE

أعلنت الشركة الناشئة اليابانية Airmembrane، المتخصصة في تطوير أغشية الغرافين الواقية (Pellicle) لمعدات الطباعة الضوئية بالأشعة فوق البنفسجية الفائقة (EUV)، في 30 أكتوبر عن جمع تمويل إجمالي يبلغ نحو 850 مليون ين. ويتألف التمويل من إصدار أسهم لمستثمرين مختارين، وقرض من Sumitomo Mitsui Banking Corporation، ومنحة من برنامج NEDO الموجّه للشركات الناشئة في التقنيات العميقة ضمن مجال GX. ولم تكشف الشركة عن قيمة كل بند. وبذلك بلغ إجمالي ما جمعته حتى الآن نحو مليار ين.

المستثمرون

قادت جولة التمويل شركة Global Brain، واكتتب فيها صندوقها التاسع وصندوق Takanawa Chikyueki وصندوق Shinhan-GB Future Flow. كما شاركت Ace Start وKSP عبر NextG Investment LP، وMitsubishi UFJ Capital التي تُعد استثماراتها هذه المرة إضافية.

أهمية الغشاء الواقي

الغشاء الواقي قطعة حماية تُستخدم في مرحلة الطباعة الضوئية بتقنية EUV عند تصنيع الرقائق المتقدمة. وهو يمنع التصاق جزيئات دقيقة بالقناع الضوئي، أي النسخة الأصلية للدائرة، وهو ما يخفض إنتاجية التصنيع بشكل كبير.

لكن المطلوب منه متناقض: أن يكون رقيقًا إلى أقصى حد ليمرّر الضوء، وقادرًا على تبديد الحرارة العالية جدًا، ومستقرًا كيميائيًا في بيئة البلازما، ومتينًا ميكانيكيًا. وبحسب الشركة، تقل في العالم المنتجات التي تجمع هذه الخصائص بتكلفة تسمح بالإنتاج الواسع.

وتكمن العقبة الكبرى في إنتاج الغرافين، الذي لا يتجاوز سمكه طبقة واحدة من ذرات الكربون ويصعب التعامل معه، بجودة عالية وكميات كبيرة. وتقول Airmembrane إنها حلّت المشكلة بتقنية تصنيع مستمر ونقل آلي طُورت في المعهد الياباني AIST. وتفيد بأن سرعة التصنيع تفوق الطرق السابقة بأكثر من 100 مرة، وأن أتمتة النقل تزيل العيوب الدقيقة والشوائب.

الخطط المقبلة

سيُوجَّه التمويل إلى بناء منظومة الإنتاج. وتعتزم الشركة في 2027 إنشاء منظومة قياس تضبط العيوب والتجانس والعمر التشغيلي وبدء الإنتاج التجريبي، ثم إطلاق خط إنتاج واسع لمعدات EUV من الجيل التالي في 2028. وتوفر الشركة أيضًا منتجات غرافين أخرى، منها شريحة الترانزستور FR01 وشبكات TEM للمجهر الإلكتروني بالتبريد.

تطبيقات تستحق النظر

الوسوم:airmembranegrapheneeuv pelliclesemiconductorsfundingnedo

المزيد من هذا اليوم

عرض الكل →

المزيد في: الشركات الناشئة

عرض الكل →