Стартапы2 нояб. 2026 г., 07:32 UTC·1 мин чтения

Airmembrane привлекла около 850 млн иен на графеновые пеликлы для EUV

Японский стартап Airmembrane привлёк около 850 млн иен в виде акционерного капитала, банковского кредита и гранта NEDO для массового выпуска графеновых пеликл для EUV-литографии.

Thin graphene membrane pellicle used to protect a photomask in an EUV semiconductor lithography system. — Фото: BRIDGE

SUMO

Dialo

ediviewer

Японский стартап Airmembrane, разрабатывающий графеновые пеликлы для EUV-литографии, 30 октября объявил о привлечении в общей сложности около 850 млн иен. Финансирование состоит из допэмиссии акций для отобранных инвесторов, кредита Sumitomo Mitsui Banking Corporation и гранта по программе NEDO для deeptech-стартапов в сфере GX. Суммы по каждой части компания не раскрыла. С учётом прежних раундов общий объём привлечённых средств достиг примерно 1 млрд иен.

Кто инвестировал

Раунд возглавил Global Brain: акции приобрели его девятый фонд, фонд Takanawa Chikyueki и Shinhan-GB Future Flow. К ним присоединились Ace Start, KSP (через NextG Investment LP) и Mitsubishi UFJ Capital, для которого это дополнительные вложения.

Зачем нужна пеликла

Пеликла — защитный элемент в процессе литографии в экстремальном ультрафиолете при выпуске современных чипов. Она не даёт мельчайшим частицам оседать на фотошаблоне, то есть оригинале схемы, а такие загрязнения заметно снижают выход годных изделий.

Требования к ней противоречивы: плёнка должна быть предельно тонкой, чтобы пропускать свет, отводить тепло при очень высоких температурах, быть химически стабильной в плазме и достаточно прочной. По словам компании, в мире мало продуктов, которые сочетают всё это при стоимости, допускающей массовое производство.

Главная трудность — получать графен толщиной в один атомный слой углерода, с которым сложно работать, в высоком качестве и в больших объёмах. Airmembrane заявляет, что решила её с помощью технологии непрерывного синтеза и автоматического переноса, созданной в японском институте AIST. Скорость синтеза, по данным компании, более чем в 100 раз выше прежней, а автоматизация переноса устраняет мелкие дефекты и загрязнения.

Планы

Средства пойдут на создание производственных мощностей. В 2027 году компания намерена наладить систему измерений, контролирующую дефекты, однородность и срок службы, и начать пилотное производство, а в 2028 году запустить массовую линию для EUV-литографов следующего поколения. Кроме того, Airmembrane уже выпускает другие графеновые продукты, включая чип полевого транзистора FR01 и TEM-сетки для криоэлектронной микроскопии.